2)第一七五章 半导体的时间窗口要来了_重生八零之低调发育
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  格去进行平衡。

  光刻机对技术的需求是极为刚性的,达不到最低的技术水平,根本就无法打动客户。只有最先进的设备,才能在市场上赚到钱。因此光刻机市场,往往是一家独大。

  虽然略微次一级的光刻机生产厂商,依旧能够有客户,但那是因为客户本身的制程要求不高,太先进的产品技术冗余太多。但这种次一级厂商也只能吃点残汤剩菜。

  未来几十年,半导体是技术演进最快的产业之一,在摩尔定律失效之前,几乎每隔量到三年,就会有一次大的技术升级。

  当前全球半导体的制程还处在微米极,1.5微米的工艺就已经算是很先进的工艺了。

  但很快就提升到亚微米级,从0.8微米开始,0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、到0.13微米。

  而纳米级也并不遥远,从0.13微米开始,制程的计算单位就会换成纳米,从130纳米、到90纳米、65纳米、32纳米、28纳米、14纳米、7纳米,到陈兵重生时已经开始触及3纳米、2纳米。

  短短四十年的时间,半导体的制程跨越了十几个技术等级,这种迭代的速度,在其他产业中,几乎是很少能够看的见的。

  而这种技术迭代的过程,最核心的设备光刻机,也恰恰是推动半导体技术迭代的主要动力。

  现在的光刻机技术,刚刚开始进入缩放投影光刻机的的时代,其实是刚刚踏上未来几十年技术竞赛的起跑线。

  在没有进入缩放投影之前,光刻机都是1:1投影的,不需要特别复杂的光路设计、光学系统,不需要特别尖赌光源技术,也不需要精度特别高的工作台和校准系统。

  这个时代的光刻机,其实算不上特别复杂,内地在这个时期与国际上的技术差距,也没有那么的明显。

  但进入了缩放投影时代之后,光刻机的复杂就开始日渐提升了。

  同样都叫光刻机,但以缩放投影为分隔点,分隔点前后的光刻机技术差异之大,甚至可以完全当成两种产品来看。

  打个不那么恰当的比喻,1:1时代的光刻机竞争只是运动场上的预选赛,对于参赛的队伍,没有什么要求。而采用了缩放投影之后的光刻机竞争,才是进入了决赛的赛程。

  内地70年代,积累的光刻机技术,取得的所谓成就,其实都是预选赛阶段的事情。但当决赛开始举行的时候,内地根本就没有参加了。

  后世很多的媒体,把内地预赛时候的成绩拿出来重新,其实不过是在嘴炮、吸引流量罢了,预选赛与决赛,根本就是完全不同的两件事情。

  如果用大家都比较熟悉的足球世界杯来做比喻,80年代是缩放投影技术运用,代表着决赛的开始,但也仅仅是组赛阶段,能够参与的公

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